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    河北11选五任5遗漏: GlobalFoundry的300mm硅光子工艺平台

    摘要:这篇笔记主要参考GlobalFoudry(以下简称GF)最近发表的文章"300mm Monolithic Silicon Photonics Foundry Technology"

    河北11选5第18092259期 www.8kf7.net   这篇笔记主要参考GlobalFoudry(以下简称GF)最近发表的文章"300mm Monolithic Silicon Photonics Foundry Technology",介绍下GF的硅光子工艺平台。

      GF采用90nm的CMOS工艺,不仅提供了光学元件的PDK,而且提供了用于模拟/数字控制电路的电学元件。光学元件主要有:Si波导、SiN波导、Mach-Zehnder调制器、Ge探测器、端面耦合器、偏振转换器件、热相移器和用于CWDM4的波分复用器。Mux/DeMux是GF的特色之一,其他Foundry都没有提供类似的PDK。电学元件包括:RF无源器件、ESD?;さ缏?、e-fuse嵌入式存储器、标准的CMOS元件。

      下图是GF硅光制程的截面图,

    (图片来自文献2)

      GF的SOI厚度是170nm, 而不是传统的220nm。金属有7层,6层为Cu, 1层为Al。而一般的硅光工艺为2/3层Cu。GF还提供了V-groove的制程,用于端面耦合器处光纤的放置。

      GF采用浸没式光刻的方法制备波导,他们对比了干法刻蚀和浸没式光刻对波导参数的影响

    (表格来自文献1)

      从上表中可以看出,采用浸没式光刻,波导宽度的刻蚀误差更小,侧壁粗糙度也更小。O波段下,350nm宽度波导的传播损耗约为1.5dB/cm, 810nm宽度波导的传播损耗约为0.5dB/cm。SiN波导的传输损耗为0.3dB/cm。

      对于弯曲波导,GF采用了OPC(opitcal proximity correction)的方法, 将弯曲波导转变成一段段台阶相连的多边形,如下图所示,其目的是光刻时得到平滑的弯曲波导图案。但是GF并没有提供采用OPC方法后的弯曲波导损耗,小豆芽对这一点存疑。

    (图片来自文献1)

      GF提供了Mach-Zehnder型调制器的PDK, 采用travelling wave电极,可以实现14GHz/20GHz的调制速率,V_pi*L约为1.54V.cm。调制器结构如下图所示,

    (图片来自文献2)

      采用750℃的Ge生长工艺,GF的锗探测器暗电流为35-70nA, 响应率为1A/W, 3dB带宽约为40GHz。

    (图片来自文献2)

      GF的端面耦合器采用的是IBM的方案(参看IBM的硅光封装方案),如下图所示。1310nm时TE模的耦合效率为0.7dB, TM模的耦合效率为1.4dB。

    (图片来自文献1)

      GF的偏振分束旋转(PSR)器件, 如下图所示。TM模的插损约为1dB, 工作带宽为60nm,TE/TM的消光比约为27dB。

    (图片来自文献1)

      GF的Mux/DeMux采用级联MZI的方案,并且借助于热相移器的调控,串扰小于25dB, 单通道的插损为2.5dB。使用热相移器,可以调控每个通道的中心波长,波长可变化+/- 3nm。

    (图片来自文献1)

      GF的热相移器为undercut型热相移器,采用V-groove类似的工艺刻蚀掉硅衬底,用于提高相移器的调制效率。最终的P_pi约为2.81mW。

    (图片来自文献1)

      关于CMOS元件,GF并没有详细介绍相应的元器件,只是对比了GF不同工艺下TIA的性能,如下图所示。硅光工艺下的TIA可支持36Gb/s的接收速率。

    (图片来自文献1)

      对于每个元器件,GF提供的PDK并不都是最优的。但是它提供了详实的数据,给出了同一wafer不同die上器件的统计数据,这一点对于产品的yield分析非常重要。一般而言,wafer中间的器件性能相对较好。GF提供了单片集成Driver和TIA的可能。此外GF还提供了Mux/DeMux的PDK, 这也是其特色之一。GF下一步将推出45nm的硅光工艺。

      (图片来自文献2)

      目前提供硅光工艺的IC fab, 主要有TSMC、GlobalFoundry和SilTerra。希望在这些芯片加工大厂的推动下,硅光工艺有较快的发展,器件性能也相应地提高。

      文章中如果有任何错误和不严谨之处,还望大家不吝指出,欢迎大家留言讨论。

      参考文献:

      K. Giewont, et.al., "300mm Monolithic Silicon Photonics Foundry Technology "

      GLOBALFOUNDRIES Silicon Photonics Platform

    内容来自:光学小豆芽
    本文地址://www.8kf7.net//Site/CN/News/2019/05/05/20190505065615258145.htm 转载请保留文章出处
    关键字: 硅光
    文章标题:GlobalFoundry的300mm硅光子工艺平台
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